- 光刻，先曝光，然后烘干，再曝光，第二次曝光是起什么作用 …
什么胶哈？我们的“小作坊”只有AZ5214会这么用，正胶反转做反胶用，第一次曝光确定图形，然后反转烘，然后再泛曝，显影。这样操作第一次曝光的区域在显影液中溶解度低，实现反胶的作用 补一个5214实现反转原理的文献，对不对就不知道了，也不是做光刻胶的 az5214e反转光刻胶的性能探究跟其 … …
光刻胶残胶如何去除干净？ – 知乎
光刻胶的残胶可以通过氧等离子体去除，且不会损伤器件的本身。 氧等离子体去胶属于干法去胶，主要是利用氧等离子体与光刻胶的碳（C）和氢（H）发生化学反应，生成二氧化碳和水蒸气，实现干法去胶的效果。可以了解真空等离子处理仪工作原理，加深等离子干法去胶的理解。 …
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